화합물반도체용 노광기 (mask aligner)
Photo Resist가 코팅된 기판을 Mask에 맞춰 Align하여, 패턴을 노광하는 설비로, 다층노광에 있어서 Auto Alignment가 가능하도록 Scope와 X・Y・θ스테이지구조를 갖추고, 또 기판의 공급・Alignment・노광・배출을 자동으로 실시합니다.
특징
- 독자적인 평행구조로 Mask와 Wafer간의 Ploximity Gap을 고정밀하게 설정.
- 독자적인 고속화상처리기술로 고정밀한 Alignment를 구현.
- Pre Alignment를 화상처리기술로 박형기판과 휜기판, 수정 등 깨지기 쉬운 Wafer에도 대응 (옵션).
- 독자적인 Contact압력 정밀제어기구로 Mask에 Wafer을 고정밀하게 Contact가능.
- Wafer의 이면진공흡착방식으로 고속・고정밀로 안정한 자동반송을 실현.
사양
※ 기판 사이즈와 수은램프의 와트수, 특수사양에 대한 상담도 가능합니다.
실험・연구용 노광기
컴팩트한 설계의 매뉴얼방식 일괄노광기입니다.
특징
MA-1200、MA-1400
- Glass, Wafer, Film 등에 대응하는 실험・연구용 매뉴얼방식 일괄노광기입니다. 소량생산에도 최적.
- 컨택노광(소프트・하드)과 플록시미티 노광이 선택가능.
- 최대 500mm×500mm기판에 대응. 용도와 기판 사이즈에 맞춰 초고압수은램프(500W､1kW､2kW､3.5kW)와 각종 미러, 특주렌즈, 콘덴서렌즈 등을 최적으로 조합한 광학계를 갖춘 설비.
MA-1200A
- 다품종・소량 생산과 실험・연구에 최적인 매뉴일 일괄노광, 안정된 자동 Gap제어가 가능.
- Footprint를 축소화하여 공간절약 구현.
사양
MA-1200, MA-1400
※ 기판 사이즈와 수은램프의 와트수, 특수사양에 대한 상담도 가능합니다.
MA-1200A
※ 기판 사이즈와 수은램프의 와트수, UV-LED탑재 등, 특수사양에 대한 상담도 가능합니다
MA-2000 ~ 4000series
기타 양산용 노광기
Photo Resist가 코팅된 기판을 Mask에 맞춰 Align하여 패턴을 노광하는 설비입니다.
특징
- 기판의 전체면 일괄노광이 가능한 자동 Proximity노광stage.
- Display, 반도체, Thermal Head 등 요구에 맞춰 설비구성이 가능.
- Auto Alignment기능채용. (MA-4000)
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